電子行業超純水工藝方案
來源：北京海揚鴻業水處理設備有限公司 閱讀：1641 更新時間：2009-04-28 11:10典型工藝流程
預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象 （≥18MΩ.CM）
傳統工藝流程
預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥18MΩ.CM）
最新工藝流程
1、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調節）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥17MΩ.CM）
2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水終端（≥15MΩ.CM）
處理后水質標準
經過高純水除鹽設備后，出水水質可以滿足顯像管、液晶顯示器、 集成電路用水標準。 國家電子級純水標準、 美國SEMI標準。
