新型光化學氣相沉積薄膜制備系統
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人氣：1702 發布時間：2009-05-08 10:53 關鍵詞：其它 產品型號： 應用領域：水處理 產品價格：面議 想了解更多產品詳情，請 |
準分子光誘導化學氣相沉積的獨特優點：
1、高效單色準分子紫外光源
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有為高效準分子真空紫外光源提供高光強的單色紫外光能有效實現在傳統紫外光源下根本不能產生的化學反應。
2、化學柔性和機械無損加工過程，不象等離子體方法和高溫熱方法傷害膜表面性能。
3、低溫成膜過程，化學反應活化能低，具有極快的反應速率。
4、成膜均勻，薄膜質量和性能比擬和超過熱化學氣相沉積法。
5、光源可瞬間開啟和熄滅
可根據需要發射所需光能,且能隨時瞬間開啟熄滅,不需要用快門。
6、高效節能，安裝靈活，超作簡便。
二、主要技術指標*:
1、光源腔：準分子真空紫外（按用戶要求配置）
2、反應腔/樣品臺尺寸：2英寸或4英寸晶圓
3、極限真空度：≤7×10－7mbar（按用戶要求配置）
4、沉積溫度：200-450oC
5、溫度精度：±2℃
6、膜厚均勻度：≤±3％
7、工藝壓強范圍：0.1-3 mbar
8、參考生長速度：6 nm/min（Ta2O5膜）
9、氣體：4-10路，質量流量控制器控制
10、真空系統配置：分子泵+機械泵（可選）
11、樣品臺轉動方式：靜止/運動（可選）
12、冷卻系統：水冷
三、應用領域：
1、 用于制備半導體行業生產所須的SiO2，Si3N4薄膜。特點是成膜溫度底、速度快、薄膜質量好。尤其適用于高性能薄膜研究及新材料科學研究工作。
2、Si和SiGe的光氧化。
3、高和低介電常數（high-k，low-k）薄膜的制備：Ta2O5，TiO2，PZT，ZrO2，HfO2，TaON和HfON等。
4、薄膜表面改性,光退火.
四、產品說明：
1、光源腔：配置不同光源或其組合。
1、反應物母體傳送噴射系統。
1、反應室：各種薄膜的沉積。
2、真空獲得及測量系統：提供材料沉積工藝條件。
3、電器控制系統：精密控制溫度、轉速。
4、氣路控制系統。
5、此設備具有真空度高、抽速快、基片裝卸方便等優點，配備高精度控制基片加熱臺、自動控溫、具有無污染、放氣量小和溫度均勻等特點。
