Hakuto 離子蝕刻機 20IBE-J 用于陶瓷板 Pt、Au、Cr 薄膜刻蝕
來源：伯東企業(上海)有限公司 閱讀：5837 更新時間：2021-01-19 15:51深圳某電子公司采用 對陶瓷板的 Pt、Au、Cr 薄膜刻蝕, 高端印制電路板生產為主
技術參數
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Φ4 inch X 12片 |
基片尺寸 |
Φ4 inch X 12片 Φ5 inch X 10片 Φ6 inch X 8片 |
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均勻性 |
±5% |
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硅片刻蝕率 |
20 nm/min |
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樣品臺 |
直接冷卻,水冷 |
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離子源 |
Φ20cm 考夫曼離子源 |
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Hakuto 離子刻蝕機 20IBE-J 的核心構件離子源采用的是伯東公司代理美國 考夫曼博士創立的 KRI考夫曼公司的
伯東 KRI RFICP 220 技術參數:
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型號 |
RFICP 220 |
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Discharge |
RFICP 射頻 |
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離子束流 |
>800 mA |
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離子動能 |
100-1200 V |
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柵極直徑 |
20 cm Φ |
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離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
10-40 sccm |
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通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型壓力 |
< 0.5m Torr |
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中和器 |
LFN 2000 |
推薦 理由:
1. 客戶要求規模化生產, Hakuto 離子蝕刻機 20IBE-J 適合大規模量產使用
2. 刻蝕均勻性 ±5%, 滿足客戶要求
3. 工作臺冷卻方式: 直接水冷
4. 樣品裝載數: 18片/批（2″）或4片/批（4″）
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