半導體廠含氟廢水的深度處理
更新時間：2009-01-17 11:30
來源：中國環保頻道
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將高濃度含氟廢水處理到10mg / L較容易，但進一步處理到3mg / L以下就比較困難。本文報道了將半導體廠含氟廢水用藥劑混凝法處理到3mg /L以下的方法一系列實驗結果表明，pH是影響除氟的最主要的因素。
1前言
離子交換法除去水中氟可使F一達到比較低的濃度，但此法操作麻煩、成本高。工業廢水中通常用藥劑混凝法除氟。按國家標準(GB8978 - 88)要求，處理后的廢水含氟量在10mg/L以一F即達到排放標準。目前有關除氟的文獻多是研究將廢水處理到F一含量為lOmg /L的方法r1，有人報道過用3000mg/L的FeC13可將300mg/L含氟廢水處理到5.4mg/L。
廣州半導體廠面臨珠江、靠近廣州自來水廠水源。該廠每天排放約35t含氟水。原廢水pH值2-3，含氟量為25-75mg/L。該廠采用石灰一氯化鈣一鋁鹽等藥劑處理，但由于工藝條件掌握得不好，除氟效果差，處理后的廢水中仍含F-10-20mg/L，這樣對水廠水源造成威脅。現在環保部門要求該廠排放廢水中的F-含量控制在3mg壓以下。我們在不改變該廠所使用藥劑的前提下，對除氟的深度處理工藝條件進行新的探索，并探討了混凝法深度除氟的作用機理。
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